Chi Siamo

• Panoramica e patrimonio

• Il nostro team e la nostra capacità di ricerca e sviluppo

• I nostri vantaggi

• Scaricare

Prodotti

• Rivestimento CVD

  • Suscettore in epigrafite a wafer singolo
  • Suscettore per wafer con rivestimento SiC CVD
  • Rivestimento in SiC Suceptor a barile in grafite
  • Rivestimento CVD SiC Parti in grafite a mezzaluna
  • Parti a mezzaluna rivestite in TaC per LPE
  • Suscettore epiplanetario TaC
  • Anello guida con rivestimento CVD TaC
  • Anello TaC poroso
  • Riscaldatore in grafite rivestita in SiC per MOCVD
  • Crogiolo rivestito in grafite pirolitica
  • Suscettore a wafer singolo SiC CVD
  • Substrato di grafite rivestita di carbonio vetroso Semixlab
  • Riscaldatore in grafite rivestito in TaC
  • Supporto per wafer rivestito in SiC
  • Suscettore in grafite rivestito in SiC MOCVD
  • Suscettore per wafer rivestito in SiC
  • Parte superiore del collettore rivestita in SiC per Aixtron
  • Disco rivestito in SiC
  • Suscettore per wafer rivestito in SiC
  • Piastra SiC per incisione ICP
  • Anello rivestito in TaC per la crescita dei cristalli
  • Grafite porosa rivestita in TaC
  • Piastra rotante rivestita in TaC
  • Crogiolo rivestito in carburo di tantalio
  • Epi suscettore a LED rivestito in TaC
  • Anelli in grafite rivestiti PYC
  • Anello guida rivestito in TaC
  • Supporto in grafite rivestito in SiC per ICP
  • Suscettore in grafite rivestito in SiC
  • Piastra di copertura in grafite rivestita in TaC
  • Anello in grafite rivestito in TaC
  • Vassoio galleggiante ad aria rivestito in TaC da 8 pollici per epitassia SiC
  • Suscettore di wafer rivestito in sic personalizzato
  • Suscettore epitassiale rivestito in SiC per la lavorazione dei wafer
  • Suscettore in grafite rivestito in carburo di tantalio
  • Supporto in grafite rivestito in SiC per wafer solare
  • Piastra in grafite porosa rivestita in TaC
  • Disco in grafite rivestito in TaC da 8 pollici per crescita epitassiale
  • Copertura satellitare in grafite rivestita in SiC per MOCVD
  • Riscaldatore in grafite rivestito in TaC da 6 pollici
  • Anello in grafite rivestito in TaC poroso
  • Anello in grafite rivestito in SiC da 8 pollici per epitassia SiC
  • Anello di grafite rivestito in TaC a trisezione per la crescita di cristalli di sic
  • LPE SiC EPI Halfmoon
  • Cilindro superiore in grafite rivestito in SiC per epitassia SiC
  • Piastra di supporto SiC per incisione LED
  • Suscettore in grafite rivestito in TaC per la crescita epitassiale dei LED
  • Disco di grafite porosa rivestito in SiC per epitassia di Si
  • Suscettore epitassia LED
  • Vassoio in grafite con rivestimento in carburo di silicio
  • Piastra di supporto del piedistallo rivestita in TaC
  • Segmento di copertura rivestito in SiC
  • Suscettore epitassiale rivestito in SiC
  • Suscettore a barilotto in grafite rivestita in SiC
  • Crogiolo di grafite pirolitica
  • Crogiolo rivestito in TaC per la crescita dei cristalli
  • Dischi di grafite rivestiti in TaC poroso per la crescita di monocristalli di SiC
  • Anello di tenuta in grafite rivestito in TaC
  • Suscettore planetario rivestito in SiC
  • Anello deflettore rivestito in TaC
  • Tubo rivestito in TaC per la crescita di monocristalli di SiC
  • Copertura rivestita in carburo di tantalio TaC
  • Suscettore di rotazione rivestito in TaC
  • Mandrino per wafer rivestito in TaC
  • Rivestimento in SiC CVD
  • Suscettore MOCVD con rivestimento TaC
  • Suscettore Epi rivestito in SiC
  • Suscettore LED UV profondo rivestito in TaC
  • Anello rivestito in TaC per reattore epitassiale SiC
  • Componente da soffitto Aixtron G5
  • Suscettore a ricottura termica rapida
  • Piastra rotante per rivestimento TaC
  • Suscettore EPI LED VEECO
  • Disco in grafite da 8 pollici per epitassia SiC
  • Anello wafer rivestito in TaC per epitassia SiC
  • Suscettore planetario ALD
  • Parti in grafite a mezzaluna rivestite in SiC
  • Suscettore per incisione ICP rivestito in SiC
  • LED UV Epi Suscettore
  • Suscettore pancake rivestito in SiC per LPE PE3061S
  • Supporto rivestito in SiC per LPE PE2061S
  • Piastra superiore rivestita in SiC per LPE PE2061S
  • Deflettore con rivestimento CVD SiC
  • Ugello di rivestimento CVD SiC
  • Cilindro in grafite SiC CVD
  • Piastra di supporto del piedistallo rivestita in TaC
  • Carburo di tantalio poroso TaC

• Ceramica a semiconduttore

  • Mandrino a vuoto in ceramica porosa
  • Pagaia a sbalzo in carburo di silicio
  • Barca in wafer ceramico al carburo di silicio
  • Bagno di quarzo semiconduttore
  • Barca di wafer di quarzo semiconduttore
  • Tubo del forno di diffusione al quarzo ad alta purezza
  • Barca wafer di quarzo ad alta purezza
  • Anello di messa a fuoco per incisione
  • Supporto per barche a wafer di quarzo
  • Membrana ceramica SiC
  • Barca in wafer di SiC ad alta purezza
  • Tubo del forno SiC
  • Barca in SiC ad alta purezza
  • Tubo del forno in carburo di silicio
  • Supporto SiC solido
  • Campana di quarzo
  • Anello con bordo in SiC solido
  • Anello in quarzo AMAT di Applied Materials
  • Barca in ceramica SiC
  • Tubo di diffusione al quarzo
  • Barca in wafer di SiC
  • Tubo di quarzo ad alta purezza
  • Pale a sbalzo in SiC
  • Scudo termico al quarzo
  • Riscaldatore in grafite ceramica SiC
  • Pagaia a sbalzo in SiC
  • Schermo al quarzo per MOCVD
  • Supporto per wafer di quarzo ad alta purezza
  • Disco di quarzo per il processo dei semiconduttori
  • Barca in wafer di quarzo personalizzata
  • Barche in quarzo ad alta purezza per la lavorazione dei wafer
  • Anello flangia in quarzo opaco
  • Flangia al quarzo per processo di semiconduttori
  • Barca di quarzo ad alta purezza per wafer di silicio
  • Campana di vetro in quarzo semiconduttore
  • Tubi per forni in silicio sinterizzato ad alta purezza
  • Finestra in quarzo fuso ad alta purezza
  • Serbatoio di quarzo per la lavorazione dei wafer
  • Crogiolo di quarzo ad alta purezza per la fusione
  • Barca di quarzo per la diffusione della lavorazione dei wafer
  • Anello di bordo in SiC per la lavorazione dei wafer
  • Barca al quarzo fuso semiconduttore
  • Disco ceramico poroso in carburo di silicio Sic
  • Effettore terminale di trasferimento wafer
  • Tubo di diffusione al quarzo ad alta purezza
  • Anello di messa a fuoco SiC solido per incisione
  • Wafer di quarzo semiconduttore
  • Deflettore di flusso al quarzo semiconduttore
  • Crogiolo ceramico SiC
  • Supporto per wafer al quarzo personalizzato
  • Disco portante SiC per incisione ICP
  • Membrana ceramica SiC
  • Braccio robotico in ceramica SiC
  • Anello di quarzo semiconduttore
  • Anello di messa a fuoco CVD SiC
  • Tubo di accensione al quarzo
  • Anelli di tenuta SSiC
  • Anello di messa a fuoco in SiC solido
  • Soffione doccia in gas SiC solido
  • Supporto per wafer in quarzo
  • Distribuzione del gas Super E
  • Anello in quarzo ombra 200 mm
  • Anello superiore in quarzo
  • Shield 150mm Sputter Etch
  • Supporto per isolatore al quarzo AMAT da 300 mm
  • wafer a film sottile piezoelettrico PZT
  • Piastre piezoelettriche PZT
  • AMAT Liner Quartz Upper Gas Dist
  • Anello al quarzo AMAT da 150 mm
  • Schermo e otturatore in quarzo opaco ad alta purezza per MOCVD
  • Anello di copertura al quarzo AMAT 0200-09911
  • Anello AMAT Quartz Shadow da 200 mm
  • Adattatore di alimentazione AMAT da 300 mm con isolatore ceramico
  • Materiale sfuso di SiC CVD ad elevata purezza
  • Anello di messa a terra isolante al quarzo AMAT 0200-15699
  • Copertura al quarzo AMAT 0200-09977 con tacca da 200 mm
  • Barca per wafer di SiC ad alta purezza
  • Blocchi e frammenti di SiC CVD ad elevata purezza
  • Riscaldatore da finestra al quarzo AMAT 0200-09074
  • Anello di ombreggiatura AMAT 0200-10243 da 150 mm
  • Anelli di messa a fuoco in SiC solido CVD

• Carbonio semiconduttore

  • Grafite porosa
  • Grafite isostatica ad alta purezza
  • Feltro rigido in grafite ad alta purezza
  • Feltro morbido in grafite ad alta purezza
  • Barca in grafite PECVD per fotovoltaico
  • Grafite porosa per la crescita dei cristalli di SiC
  • Pallet CFC per fotovoltaico
  • Elementi riscaldanti in grafite
  • Grafite isostatica ad alta purezza per semiconduttori
  • Crogiolo di grafite isostatica rivestito in SiC
  • Crogiolo composito di carbonio e carbonio
  • Feltro di grafite rigido
  • Materiali compositi carbonio-carbonio
  • Feltro di grafite morbido
  • Parti in grafite del campo termico
  • Barre di grafite impregnate
  • Elementi riscaldanti in grafite
  • Anelli di tenuta in grafite isostatica ad alta purezza
  • Feltro di grafite morbida semiconduttore
  • Grafite porosa ad alta purezza
  • Crogiolo di grafite a tre petali
  • Riscaldatore in grafite Hot Zone
  • High Purity Soft Felt

• Materiale di imballaggio per semiconduttori

  • Fotoresist in poliimmide fotosensibile PSPI
  • Materiale fotoresist ArF per fotolitografia
  • Abrasivo lucidante CMP

• nuova tecnologia

  • Wafer di SiC 3C
  • Materia prima per la crescita dei cristalli di SiC

• Apparecchiature a semiconduttore

  • Forno di crescita di cristalli SiC con riscaldamento a resistenza di grandi dimensioni
  • Forno di pressatura a caldo sotto vuoto per la saldatura di semi di cristalli di SiC

News

• News dai brand

  • Semixlab Technology presenta con successo l'innovazione al SEMICON Europa 2025
  • Cos'è la grafite pirolitica?
  • SEMICON China 2026: Semixlab presenta le innovazioni di rivestimento in SiC e TaC per l'epitassia dei semiconduttori.
  • Che cosa è un suscettore di grafite?
  • A cosa serve il carburo di silicio?
  • Cos'è il rivestimento TaC?
  • Cos'è il PECVD in una cella solare?
  • Semixlab debutta alla fiera fotovoltaica SNEC 2025, esplorando l'innovazione dei materiali con i giganti mondiali del fotovoltaico
  • Approfondire la cooperazione e promuovere l'innovazione: un partner prezioso visita Semixlab Semiconductor
  • Che cos'è LED Epitaxy Suscettor?

• Blog

FAQ

Contattaci