Ceramica SiC

Le ceramiche al SiC sono sempre più utilizzate nelle apparecchiature per semiconduttori, principalmente perché resistono meglio in condizioni più difficili. Quando la temperatura aumenta o il processo diventa più aggressivo, materiali come il quarzo o il silicio possono iniziare a mostrare i loro limiti, ed è qui che entra in gioco il SiC. Nei processi in forno come l'ossidazione o la diffusione, componenti come le vaschette o le pale per wafer realizzate in SiC tendono a durare più a lungo. Mantengono la loro forma e non introducono molta contaminazione, anche dopo lunghi cicli di funzionamento. Spesso si passa dal quarzo al SiC proprio per questo motivo, soprattutto quando la manutenzione diventa troppo frequente.

Per la fase di incisione, il SiC viene spesso scelto semplicemente perché resiste più a lungo al plasma. La differenza di durata rispetto ai componenti in silicio è evidente in molte configurazioni, sebbene dipenda comunque dal processo specifico. Contribuisce inoltre al controllo delle particelle, che diventa più critico con la miniaturizzazione dei nodi tecnologici. Il SiC viene utilizzato anche come materiale di supporto nei processi MOCVD o CVD. In questi casi, la "resistenza" è meno importante della stabilità del comportamento termico. Oltre a ciò, il SiC viene impiegato in componenti per camere di reazione come rivestimenti o soffioni doccia, e talvolta anche in componenti per la movimentazione.