Campana di quarzo
| Luogo di origine: | Cina |
| Marca: | Semixlab |
| Numero di modello: | Campana di quarzo-01 |
| Certificazione: | ISO9001 |
| Quantità di ordine minimo: | Soggetto a negoziazione |
| Prezzo: | Contattaci per un preventivo personalizzato |
| Imballaggi particolari: | Pacchetto di esportazione standard |
| Tempi di consegna: | 30-45 giorni dopo la conferma dell'ordine |
| Condizioni di pagamento: | T / T |
| Capacità di fornitura: | 100 unità/mese |
Descrizione
La campana di quarzo è un componente protettivo fondamentale nel processo di produzione dei semiconduttori. È realizzata in quarzo sintetico ad altissima purezza ed è progettata per ambienti ostili nel settore dei semiconduttori, del fotovoltaico e delle apparecchiature da vuoto di fascia alta. In processi chiave come la CVD (deposizione chimica da vapore), i forni a diffusione, l'incisione, l'impianto ionico, ecc., la campana di quarzo garantisce un ambiente di processo privo di inquinamento e altamente uniforme per il wafer grazie alla sua eccellente resistenza alle alte temperature, al coefficiente di dilatazione termica estremamente basso e all'eccellente stabilità chimica.
Applicazione:
La campana di quarzo è una copertura protettiva a forma di campana realizzata in vetro di quarzo ad alta purezza, che offre un'eccellente resistenza alle alte temperature, stabilità chimica e trasparenza ottica. È ampiamente utilizzata in laboratori, processi di semiconduttori, sistemi a vuoto, protezione di strumenti di precisione e altri settori.
Servizi che possono essere forniti:
analisi dello scenario applicativo del cliente, abbinamento dei materiali, risoluzione dei problemi tecnici.
Profilo Aziendale:
Semixlab dispone di 2 laboratori, un team di esperti con 20 anni di esperienza nei materiali, con capacità di ricerca e sviluppo e produzione, test e verifica.
Specifiche
| progetto | parametro |
| Materiale | Quarzo sintetico (SiO2≥99.99%) |
| Temperatura massima di esercizio | 1200°C (a lungo termine) |
| Coefficiente di espansione termica | 5.5×10-7/°C |
| Trasmittanza (@254nm) | ≥90% |
| Ruvidezza della superficie | Ra≤0.4μm (super lucidatura opzionale) |
| Gas di processo applicabili | HF, Cl2, O2, SiH4, ecc. |
Applicazioni
Principali campi di applicazione
| Direzione dell'applicazione | Scenario tipico |
| Produzione di semiconduttori | Camera di reazione CVD, crescita epitassiale, copertura protettiva della macchina per l'impianto ionico. |
| Industria fotovoltaica | Apparecchiatura PECVD, deposizione di film sottili. |
| Attrezzature per la ricerca scientifica | rivestimento sotto vuoto, sistema MBE (epitassia a fascio molecolare). |
Approvazione della verifica della catena ecologica
La verifica della catena ecologica della campana di quarzo Semixlab copre l'intera filiera, dalle materie prime alla produzione, ha superato la certificazione degli standard internazionali e dispone di una serie di tecnologie brevettate per garantirne l'affidabilità e la sostenibilità nei settori dei semiconduttori e delle nuove energie.
Processo di applicazione tipico
Preparazione della materia prima (sabbia di quarzo ad alta purezza) → Formatura a fusione → Ricottura a temperatura controllata → Lavorazione di precisione (taglio, rettifica, smussatura) → Controllo di qualità → Trattamento superficiale (facoltativo) → Imballaggio
Con il rapido sviluppo dei settori dei semiconduttori, del fotovoltaico e delle nuove energie, la domanda di mercato di campane di quarzo ad alta purezza continuerà a crescere. Le campane di quarzo Semixlab stanno gradualmente sostituendo le importazioni in settori applicativi di fascia medio-alta, migliorando la purezza del materiale, ottimizzando i processi di rivestimento e rivoluzionando la tecnologia di produzione su larga scala.
Per specifiche tecniche dettagliate, documenti tecnici o accordi per test campione, contatta il nostro team di supporto tecnico per scoprire come Semixlab può migliorare l'efficienza dei tuoi processi.
Vantaggio competitivo
Vantaggi del nucleo della campana di quarzo Semixlab
Materiale al quarzo ad altissima purezza: garantisce zero inquinamento del processo
La campana di quarzo Semixlab è realizzata al 99.99% in quarzo sintetico ad alta purezza e il contenuto di impurità metalliche è rigorosamente controllato al di sotto di 1 ppm, eliminando radicalmente il rischio di contaminazione da metalli durante la lavorazione dei wafer. Il bassissimo contenuto di idrossili (OH < 10 ppm) garantisce che non venga rilasciato vapore acqueo durante i processi ad alta temperatura, evitando così di compromettere i processi sensibili. Grazie alla precisa tecnologia di controllo delle bolle, il tasso di formazione di bolle nel prodotto è inferiore allo 0.1% e l'uniformità ottica raggiunge i massimi livelli del settore, offrendo un ambiente di lavoro perfetto per i processi laser e le ispezioni ottiche.
Eccellente resistenza alla temperatura: adattamento ad ambienti di processo estremi
La campana di quarzo offre un'eccellente stabilità alle alte temperature e può resistere a lungo all'ambiente di lavoro ostile di 1200 °C, oltre a sopportare i requisiti di processo ad altissima temperatura di 1450 °C nel breve termine. Grazie al bassissimo coefficiente di dilatazione termica, mantiene la stabilità dimensionale anche in caso di drastiche variazioni di temperatura, evitando il rischio di cricche dovute a stress termico. L'eccellente resistenza agli shock termici le consente di adattarsi ai frequenti incrementi e diminuzioni di temperatura tipici della produzione di semiconduttori, migliorando significativamente il tasso di utilizzo delle apparecchiature.
Inerzia chimica e resistenza alla corrosione: maggiore durata utile
Le nostre campane di quarzo presentano un'eccellente stabilità chimica e sono in grado di resistere alla corrosione da fluidi altamente corrosivi come HF e HCl, rendendole perfette per vari processi di incisione e pulizia nella produzione di semiconduttori. Speciali processi di trattamento superficiale conferiscono loro un'eccellente resistenza all'erosione da plasma, una superficie densa e priva di pori e riducono efficacemente la deposizione di particelle. Grazie a processi di lucidatura di precisione, la rugosità superficiale può essere controllata a Ra≤0.4 μm (opzionalmente super-lucidata a Ra≤0.1 μm), riducendo al minimo l'impatto sulla superficie del wafer.
Eccellenti prestazioni ottiche: supporta processi ottici di precisione
Il prodotto mantiene un'elevata trasmittanza, superiore al 90%, nelle bande ultraviolette e infrarosse, particolarmente adatta per collegamenti di processo con requisiti rigorosi in termini di prestazioni ottiche. L'esclusiva formula del materiale e il processo di produzione riducono efficacemente l'effetto di fluorescenza ed evitano interferenze con la rilevazione ottica di precisione. Queste eccellenti proprietà ottiche lo rendono la scelta ideale per processi avanzati come la ricottura laser e la polimerizzazione UV.
Progettazione personalizzata: adattamento preciso ai requisiti delle apparecchiature
Offriamo una gamma completa di servizi personalizzati e diverse dimensioni di prodotto si adattano perfettamente alle diverse esigenze delle attrezzature. Progetti speciali possono essere realizzati su disegno del cliente.
I nostri servizi

Negozio di prodotti Semixlab


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