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Incisione a secco con SiO2

Il biossido di silicio, più comunemente noto come SiO₂, è un materiale chiave utilizzato nella creazione di dispositivi di piccole dimensioni. In Semixlab, elaboriamo wafer di silicio con pattern dettagliati, utilizzando una tecnica chiamata incisione a secco sio2 g. Come funziona questo metodo?

L'incisione a secco di SiO₂ si riferisce a un processo di incisione del biossido di silicio su wafer di silicio utilizzando specifici prodotti chimici e plasma. Al plasma, che è un tipo di gas, viene aggiunta energia. Grazie al plasma, possiamo rimuovere lo strato di SiO₂ senza danneggiare gli strati sottostanti.


Ottimizzazione dei parametri per l'efficienza dell'incisione a secco con sio2

Se abbiamo bisogno incisione a secco sio2 Per ottenere risultati più efficaci, dobbiamo impostare alcuni parametri come la portata del gas, la pressione e la potenza. Regolando queste impostazioni, siamo in grado di controllare la velocità di incisione e l'efficacia dell'incisione del solo SiO₂ di Semixlab. Questo è fondamentale, poiché desideriamo incidere il SiO₂ senza toccare altri materiali sul wafer.

Perché scegliere l'incisione a secco Semixlab Sio2?

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